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工業(yè)氣體純化設(shè)備

簡要描述:工業(yè)氣體純化設(shè)備利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2021-04-14
  • 訪  問  量:1637

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工業(yè)氣體純化設(shè)備原理;

O2 + H2 ----- HO2

     利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。

     常壓氫氣純化設(shè)備以電解氫氣或氨氣分解氫氣為原料,經(jīng)催化除氧冷卻、吸附二級干燥,再經(jīng)過濾器,除去氫氣中雜質(zhì)氧、水汽和塵埃而獲得高純氫氣。

產(chǎn)品氫氣指標:1、純度≥99.9995

2、露點≤-60℃

3、處理氣量:5-2000m³/h

4、整套設(shè)備所用材質(zhì)均為304不銹鋼材質(zhì),要求防爆等級。

 

工業(yè)氣體純化設(shè)備特點:

● 純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應(yīng)用,氫含量可調(diào)。

● 原理簡單,結(jié)構(gòu)合理,能耗低

● 氣體指標溫度,雜質(zhì)含量低

● 可選配自動系統(tǒng),實現(xiàn)無人值守

● 應(yīng)用范圍廣,對原料氣無特殊要求

 

技術(shù)指標:

普通氮氣:

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10~5000Nm3/hr

 

高純氮氣:
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點——≤-70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10~5000Nm3/hr

 

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